这是一台生长宽禁带半导体的仪器。

顾律在国外见过这种设备。

cvd系统是有些区别的。cvd系统最关键的问题就是保证材料生长的均匀性和重复性，所以国内和国外ocvd系统的主要区别在于反应室结构。

在国外，反应室结构大多采用‘turdisc反应’，而国内则是采用‘行星反应’。

两者各有其优劣，说不上谁更好。

cvd，虽然使用的仍旧是国内的行星反应室结构，但在设备的其他组成系统上，应该进行了深层次的优化。

顾律只是简单的上下打量了这台设备一眼，就得出一个这样的结论。

“张主任，你们的这台设备应该进行了一定程度的改装吧，根据我的推测，这台ocvd不止最多可以同时生长两片15英寸的gan宽禁带半导体？”顾律说出自己的猜测。

张主任竖起大拇指。

“你说的没错。”张主任拍拍设备，语气略带得意的开口，“这台设备买回来后，我就让隔壁机械学院的几位朋友改装了一下。”

“你看着，在这块源供给系统部分，我们加了一个恒温器，可以保证金属化合物一个衡定的蒸气压。”张主任指着仪器前端的加装上去的一个恒温器为顾律介绍。

“还有这。”张主任把顾律领到ocvd的背面，“这块是气体运输系统，原本这里是只有一条管道的。”

“但是我们又增加了一条，这样的话，可以迅速变化反应室内的反应气体，并且还不会引起反应室内压力的变化！”

张主任为顾律详细的介绍了这台设备的改装情况。