将近有半个篮球场的大小。

一眼望去，可以看到实验室内数位研究员在各台仪器前紧张的忙碌着。

“主任好。”

“主任好。”

几位年轻的研究员助理见到张主任进来，客气的打招呼。

张主任点点头，然后摆摆手，“你们接着忙，接着忙。”cvd那边吧。”张主任压低声音，询问顾律。

顾律点头一笑。

张主任带着顾律来到一台一个高的长方形设备面前。

cvd了！”张主任拍拍设备外面的铁壳，笑着为顾律介绍。

顾律上下打量了这台设备一番。cvd，是在气相外延生长的基础上发展起来的一种新型气相外延生长技术。

该设备以3族、2族元素的有机化合物和v、6族元素的氢化物等作为晶体生长源材料，以热分解反应方式在衬底上进行气相外延，生长各种3v主族、26副族化合物半导体以及它们的多元固溶体的薄层单晶材料。

上面说的有些复杂。

简单来理解的话，就是通过这台ocvd设备，可以将有机化合物和氢化物，合称为实验室所需的gan宽禁带半导体。