后世华夏比较欠缺的两大样，一个是光刻机，另一个就是发动机了，要知道到2020年代，华夏要进口3000多亿美金的芯片，还要进口3000多亿美金的原油，这是很大的两块儿外汇支出。

因为瓦森纳协定的关系，半导体行业华夏发展起来举步维艰，因此仓耀祖就想通过清微半导体，以浸入式光刻技术和双重成像技术来诈称技术突破，在打乱西方光刻机研发节奏的同时，也是希望阿斯麦、尼康、佳能等光刻机公司投入更多的资金来研发下一代光刻机，等他们资金链紧张了，看他们会不会继续禁止出口光刻机给华夏的企业。

毕竟以前有例可循，一旦华夏研发取得突破，西方的成熟技术产品就会大批量砸掉华夏研发技术的市场，让华夏的后续研发成为无水之源，因为缺乏资金而放弃继续研发，毕竟只投入没产出的事情谁也受不了啊，心态绝对会崩。

这就是半导体这块儿仓耀祖的骚操作，当然只靠这些小花招，也许能蒙蔽一时，长久之下还是会曝光的，但仓耀祖要的也就是一时的蒙蔽，只要那几家公司上当那么一下下，华夏的困局就能解开很多。而距离euv极紫外光刻机的商用，差不多还要二十年，华夏加大这方面的研发力度的话，研发进程是完全能赶上来的，毕竟，华夏在激光光源这块还是挺强的。

euv光刻机的极紫外光源主要采用的是将二氧化碳激光照射到锡等靶材上，激发出135n的光子，作为光刻机光源，这种光源具有光学质量近乎完美、高速且完全相同的脉冲，具有半导体行业所要求的清洁度、精确度和可重复性。

激光光源好解决，难的是那近3万个机械零件，有顶级的镜头和光源，没极致的机械精度，也是白搭。光刻机里有两个同步运动的工件台，一个载底片，一个载胶片。两者需始终同步，误差在2纳米以下。

不管多难吧，只要有了一定的基础，再来发动全国的研发力量，突破总是会越来越多的，一家公司肯定是干不成，那就大家一起干好了，不就是砸钱嘛，当然，这个钱不能仓耀祖来砸，他还要在米国这边混呢。

仓耀祖只能是出出馊主意，然后一切的一切都交给杨斯正和倪光南来做，让他们去向国家要钱要政策，讲明利弊和未来的发展形势，保证投入必有产出，即使没产出也能逼迫西方国家放松设备出口以抢占华夏的光刻机市场，投入个几十亿美金，相比于以后每年那几千亿美金的支出，怎么讲都是划算的。

仓耀祖也给杨斯正和清微半导体指明了方向，浸没式光刻，双重成像技术，反射镜代替透镜技术，磁悬浮驱动技术，真空腔体的极紫外光系统，反正仓耀祖把他知道的统统都倒给了老杨，能做成什么样，说实在的他也使不上太大力气了，毕竟他也不是这个专业的，也不能现转专业去搞科研吧。