在二十年前，我们采用汞灯产生的 &n-line 和 365nm i-line 作为刻纹光源，当时就能满足0.8-0.35 微米制程的集成电路生产。

而我们把早期………光刻机，是采用接触式刻纹，即掩模贴在硅片上进行刻纹，咱们国家的东方红卫星内部的很多集成电路版都是以这种方式刻录下的，不过这种刻纹容易产生污染，且掩模寿命较短。”

周明一边仔细地看着一边自言自语道，显然面前的这台刻录机已经不再采用汞灯了，但具体是什么光源，看来还得打开研究。

“周教授，现在光刻机采用的都是采用氟化氪准分子激光作为光源，这可以将最小工艺节点提升至零点一微米的水平，这台设备在光刻工艺上采用的是扫描投影式光刻，也是现在光刻机通用的一种，光源通过掩模，经光学镜头调整和补偿后，以扫描的方式在硅片上实现曝光。”

呈贤此时出现在了现场，他虽然是一位芯片设计师，但对于晶圆设备也很了解，几年前也曾经到过湾湾那里对那边的工人进行培训。